第1725章 东成西就 (第3/3页)

    别说大学教授加盟了，便是院士加盟，世人看到也会觉得理所当然。

    王林给爱秀科技的定位是十分明确的。

    一个是给人做代工。

    一个便是研究芯片的生产设备。

    至于芯片的设计研究，王林没有想过要去做。

    因为王林知道，这一块的工作，有的是人去做。

    当大家都以为芯片的设计最重要的时候，王林却选择了做制造芯片的机器。

    正常人看来，设计芯片的肯定比生产的工厂要赚钱。

    办代工厂，既累又苦，利润还低。

    欧美大厂对此不屑一顾。

    但王林却选择了这条最辛苦的道路。

    请来了光刻机领域最厉害的教授，王林成立了爱秀科技最重要的一个研发部门。

    这个部门，这个团队，只做一件事，那就是尽一切能力，研究出新一代的光刻机技术。

    我国的光刻机技术，曾经领先于世界，处于最先进的水平。

    1964年我国科学院研制出65型接触式光刻机；1970年代，我国科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺；清大研制第四代分部式投影光刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。而那时，光刻机巨头asml还没诞生。

    1982年，科学院109厂研制出kha-75-1光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低，最保守估计跟当时最先进的相比最多也就不到4年。

    1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过电子部技术鉴定，认为达到米国4800dsw的水平。这应当是我国第一台分步投影式光刻机，我国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。

    很可惜，光刻机研发至此为止，我国开始大规模引进外资，有了造不如买、科技无国界的思想。光刻技术和产业化停滞不前。放弃电子工业的自主攻关，诸如光刻机等科技计划被迫取消，导致20年技术积累全部付诸东流。

    1994年，江城无线电元件三厂破产改制，卖副食品去了。

    九十年代以来，光刻光源已被卡在193纳米无法进步长达20年，这个技术非常关键，这直接导致asml如此强势的关键。直到二十一世纪，我国才刚刚开始启动193纳米arf光刻机项目，足足落后asml20多年。

    光刻机是采用类似照片冲印的技术，把掩膜板上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上的设备，是制造芯片的核心装备，也是目前顶尖科技的代表。

    高精度光刻机的制造工艺极其复杂，核心零件便有8万个左右，共需要超10万个零部件，因此，光刻机也有了“现代光学工业之花”的称号。如此高的制造门槛，也就导致了光刻机制造领域的玩家也寥寥无几。

    还好，王林出现了。

    他在1995年横空宣布，进入半导体产业。

    这个时间，正好是我们电子产业即将断代的时候，也是我国光刻机产业还不是太落后于外国的时候！

    王林伸出他的大手，接住了时代赋予他的半导体接力捧！

    他能否带领爱秀人，在半导体领域闯出一片别样的蓝天？

    

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