第一五四五章 应该问题不大 (第2/3页)
的陪同下,除了看球,就是在韩国各地游山逛水,吃香的喝辣的,但外面再好也没有家里好,有些想念老伴和孙子孙女了,即使中国队挺进16强,他们也不打算留在韩国看球了,就在电视机前为中国队加油。
一行人明天上午乘飞机回京城,下午乘飞机回江城。
孙健一行人9日回了一趟京城,参加pGcA半导体厂投资15亿美元建设的一条90nm制程工艺半导体生产线的量产仪式。
国内有了一条世界最先进的半导体生产线,短时间内能满足国智cpU生产的需要。
6月2日,国智cpU研究所已经宣布研制成功比肩pentium4和Athlonxp的GZ-cx4,在国内外引起巨大的轰动,电脑发烧友们纷纷发文,希望早日看到GZ-cx4上市。
京城半导体研究院院长邓国辉院士已经接到比利时微电子中心(ImEc)负责人阿诺德博士的邀请涵,请他参加7月2日在布鲁塞尔举行的157nm微影技术的研讨会,到时来自全球光源和光学方面的专家学者汇聚一堂,为攻克193nm波长的世界性光学难题出谋划策。
在请示孙健后,邓国辉院士已经接受邀请。
公司高管和重要人员出国,不论公干或私事,都要经过孙健的批准,一路有安保人员陪同,这是公司制度。
孙健预感,台积电的林本坚博士将会在这场研讨会上提出前世着名的「浸润原理」,从此以后,在张忠谋的支持下,台积电开始「浸润原理」商业化的研究。
前世台积电同ASmL合作,在2004年研究成功40nm制程工艺的ASmL
浸没式光刻机,攻克了65nm制程工艺的瓶颈,一举超过光刻机龙头尼康公司,引领行业发展,但他们不知道,邓国辉院士和所长钱富强研究员率领京城光源研究所的140多名研发人员,经过2年半的潜心研究,在孙健不断「点拨」下,于1999年7月已经研制成功浸没式光刻系统技术,波长变成了134nm,突破了190nm波长的世界性
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