第一三八七章 折中方案 (第2/3页)

都是肉，但严格按照两国法律办事，不会留下被人攻击的把柄。

    以GCA如今的江湖地位、财力和技术实力，愿意同SVG联合开发157nm激光器，对双方都有利，如何说服Papken同意就不是孙健关心的事了。

    “好的，董事长！”

    “好的，董事长！”

    孙董事长同意两条腿走路，艾德里安和汤普森放心了，他俩有信心说服Papken。

    其他董事也露出笑容。

    孙健也没办法说服公司高层放弃研究157nm激光器，只能折中。

    1999年财报显示，SVG的销售收入只有27亿美元，不到GCA的5，157nm激光器技术路线在前世已被证明没有远大前途，孙健不能明说，也说不清楚，正好借这次董事会的机会否决了GCA高层打算投资10亿美元收购SVG的意向。

    前世，为了能进入EUV LLC联盟，给美国政府一份投名状，ASML花费16亿美元收购了市值10亿美元的SVG，拿到了157nm激光器需要配置的反折射镜头技术，由于已经研发成功193nm浸没式光刻机技术，光刻效果超过Nikon的157nm光刻机技术，SVG的157nm激光器技术被束之高阁。

    前世，Nikon费尽心机，在ASML研究成功193nm浸没式光刻机二年后，也研制成功157nm激光器，攻克了193nm波长的世界级难题，研制成功65nm制程工艺光刻机，但光刻效果不如65nm制程工艺的ASML浸没式光刻机好，Intel、台积电和三星等光刻机等三家全球最重要客户不买账，Nikon不得不另起炉灶，重新开始研发浸没式光刻机，Nikon技术实力雄厚，竟然也研制成功，但一去一回，耽误了三、四年的时间，高端光刻机市场被ASML占据了，随着EUV光刻机面世，超高端光刻机市场也被ASML垄断，日本举国之力也没有研制成功EUV光刻机，Nikon丧失了同ASML竞争的资格，在中端光刻机市场混日子。

    光刻机产业和晶圆制造产业都属于劳动密集型和资金密集型产业，优胜劣汰，前世全球只剩下3、4家！

    

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