第九五五章 交换专利 (第3/3页)

统也有了着落，换取GCA的ArF准分子激光器的终身专利授权成为首要之选。

    “孙董事长，虽然公司的ArF准分子激光器还保持行业第一，但Nikon和等光刻机公司都拥有自己的ArF准分子激光器公司发明专利，我担心BSEC不会答应。”

    如今世界前十位的光刻机公司都有自己研发的ArF准分子激光器，GCA的ArF准分子激光器不是唯一之选，艾德里安当然担心。

    “艾德里安总经理，因为涉及两家控股公司关联交易和利益输送方面的法律问题，我不便出面，我授权艾德里安总经理代表GCA，同汤普森院长一起，带着律师，一起前往BSEC，与对方的余建国总经理和邓国辉院长商谈ArF准分子激光器同光刻机磁悬浮式双工作台系统专利技术授权转让事宜，我也授权余建国总经理代表BSEC，你们双方商量后决定，艾德里安总经理和余建国总经理最后在专利技术授权转让协定上签字盖章。”

    GCA属于美国上市公司，美国的法律条文齐全，违法必究，涉及到两家控股公司的关联交易和利益输送，一旦出问题，孙董事长跑不了，避免留下污点，不会出面协调，不给下属留下偏袒一方的把柄，避免秋后算账，他只会告诉余建国，他将入股蔡司公司，解决光学系统的难题，相信余建国和邓国辉知道公司急需什么技术？处在优势位置，在谈判桌上，不会吃亏。

    有了世界第一的ArF准分子激光器专利技术的终身授权，BSEC光源厂就能合法生产ArF准分子激光器（不能出售和转让专利技术），邓国辉团队在研究透了ArF准分子激光器的基础上，开始研发ArFi准分子激光器，提前研制193nm浸没式光刻机，一旦研制成功，BSEC必将脱胎换骨。

    浸没式光刻系统是前世台积电林工程师的建议，被投入巨资研究F2准分子激光器的尼康和佳能等光刻机光源专家嗤之以鼻，但ASML冒险采纳了这个建议，攻克了光刻机193nm波长的世界性光学难题，生产了全球第一台浸没式光刻机，一举成名！

    

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