第435章 芯片自研自产！收购中芯国际的晶圆厂？ (第2/3页)

待遇，要等到4G基带点亮成功才行！

    王逸推行量化管理，奖金不是一个部门吃大锅饭，而是精确到具体的项目组，具体到个人。

    一个部门，不同的项目组，不同的突破，都会有天壤地别的待遇。

    “胡老，量产的事，就交给你了，先生产鲲鹏702！”王逸嘱咐道。

    “好的，董事长，我这就安排！”胡老应道，随即意味深长道：“王董，别忘了新的晶圆厂。”

    “放心。”王逸说着，看向秦主任和赵老：“两位领导，咱们里面说。”

    “好！”

    三人回到办公室，赵老再也压抑不住自己的兴奋：

    “王董，厉害，真厉害啊！40纳米芯片不但量产了，还把良品率干到了89%，牛！”

    王逸淡淡一笑：“其实比89%还多一些，那11%的废品芯片也会进一步处理，做成低频的残血版鲲鹏700！”

    “原来如此，那这样说来，废品率反而更低了。”两人恍然大悟。

    “是的，两位领导，接下来我们会优先量产鲲鹏702，将xphone 1pro、星逸平板X1pro、星逸电视X40、X50的英伟达Tegra 3，全部换成自研自产鲲鹏702。还有xphone 2的APQ 8064，也都换成自研自产鲲鹏的鲲鹏702！”

    “太好了！”赵老兴奋不已：“你们是内地第一个实现了40纳米芯片自研自产的企业，也是全国第一个实现40纳米自研自产的企业。”

    “国家的骄傲，民族的自豪！”

    “王董，干得漂亮。”

    “明天我就让央视来星逸科技、星逸半导体做专访，在央视新闻播出，当作科技标杆，给所有企业做榜样！”

    王逸却是连忙摆手：“赵老，大可不必。当下阶段，还是韬光养晦，锦衣夜行。”

    “这……”赵老眉头微皱：“你是在担心……”

    王逸叹了口气：“赵老，虽然星逸科技实现了40纳米芯片的自研自产，但光刻机等核心设备，以及光刻胶等核心原材料，国产根本做不到，都依赖进口。”

    “现阶段咱们打破封锁，实现自研自产，闷声发大财还好。若是太过高调，招来不必要的麻烦，一旦被卡，反而……”

    “对，你说的有道理。”赵老点点头，神色有些复杂。

    有些憋屈，也有些无奈。

    可形势比人强，不得不低头。

    王逸继续道：“而且我准备这两个月引而不发，暗中量产鲲鹏702，并且进行适配调教。等到两个月后，直接全面替代，直接推出！把苹果、高通、三星等竞争对手，打得措不及手！”

    “若是现在就曝光，万一他们暗中布局，使幺蛾子，阻止鲲鹏芯片的量产，到时候倒霉的还是我们。”

    为长远利益，王逸不求一时得失。

    “对，你的考虑很有道理。放心，你们40纳米工艺都突破了，官方也会更加重视你之前的提议。已经组建相关机构，成立攻坚团队，进一步加大对光刻机、光刻胶等领域的研发投入，当做最核心的项目去突破。”

    赵老叹了口气：“过去，种种因素决定，我们对于半导体，对于光刻机的投入，都不够大。但现在，彻底变了。”

    最初，王逸托秦主任送上去的那份报告，引起了部分关注，但是很有限，很快就被束之高阁。

    后来，星逸手机热销，秦主任拿着那份报告再度找上老领导赵老，苦口婆心地劝谏。

    赵老也觉得星逸科技有前途，再度在顶层会议上提出那份报告。

    这一次，有部级领导的亲自背书，再加上星逸科技不断做大，成为顶级巨头。

    只能说，人的名，树的影。

    之前的星逸科技是个新兴企业，上层关注度不够，再好的报告，也没多少重视。

    可如今星逸科技成了国内顶级巨头，在国际上都所向披靡，干苹果，镇三星，打的HTC找不到北。

    可以说，早已今非昔比！

    没有任何意外，这一次，王逸的那份报告引起顶层高度重视，以及众多要员和院士的全力支持。

    光刻机、光刻胶等项目，也成功地被列入国家战略核心项目，要求相关机构联合攻坚，投入巨资突破。

    如今星逸半导体实现了40纳米芯片的自研自产，王逸的分量变得更重。

    那份报告的含金量也会更高，相关项目的研发和投入，也会更恐怖！

    说白了，一切都实力说话。

    前世，为什么那么支持华为？

    就是因为华为有底蕴，有能力，有技术，能做到其他企业做不到的突破。

    同样，星逸科技也展示出了恐怖的实力。

    苹果、三星、高通都做不到的基带集成，星逸半导体做到了。

    中芯国际那么多年都搞不定的40纳米工艺，星逸晶圆厂搞定了，试产良品率就高达89%，后续只会更高。

    华为都做不到的芯片自研自产，星逸科技做到了，还性能卓越。

    如此成绩，全球都会震惊。

    高层自然会高度关注，大力支持。

    “王董，你放心，用不了几年，光刻机会突破，光刻胶也会突破！”赵老郑重道。

    这年头的光刻机还是DUV光刻机，不像EUV光刻机那么难如登天，自然好突破。

    同样，光刻机也只是28纳米，20纳米的中端光刻胶，不像前世5纳米，3纳米纳米的高端光刻胶那么困难。

    说白了，当下和欧美的差距还很小。

    因为王逸之前不知天高地厚的提议，官方提前布局，提前攻坚，完全可以在差距小的时候，提前追赶上欧美，甚至弯道超车。

    前世，落后得太多。

    那时候，欧美EUV都更新了好几代，并且投用了多年，咱们才奋起直追DUV光刻机，自然难。

    可这一次，大家都还是DUV，那就简单了。

    至于阿斯麦的EUV，目前还不成熟，正式投用还得好几年。

    因为王逸的提议，提前追赶，前途可期。

    “那再好不过，我相信国家机器的力量。”王逸笑说。

    像是DUV光刻机，星逸科技要做，十年都难。

    官方要做，有国家机器全力支持，五年就差不多搞定14纳米的DUV。

    后续不断迭代升级，逐步提高精准度，达到10纳米，7纳米，不在话下。

    毕竟阿斯麦2003年推出了第一代浸没式DUV 1250i，最初也是造45纳米芯片的。

    后续不断对DUV光刻机的光源、光学系统、套刻精度、温控等方面，进行全方位升级。

    这才逐渐实现了32-28纳米工艺，以及后续的20-16纳米工艺，再到10纳米节点、7纳米节点，以及十年后的5纳米节点。

    

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